日本の化学メーカーが、半導体製造に不可欠な

　　　　フォトレジストの次世代品

を相次いで商品化する。

　世界最大手のＪＳＲが線幅20ナノ（ナノは10億分の１）メートル台の超微細加工に対応した製品を開発している。
　２位、３位の東京応化工業と信越化学工業も20ナノ台の加工に対応した製品のサンプル出荷を2010年にも始めることが予定されている。

　日本企業は半導体では海外勢に押されているが、素材分野では高いシェアを維持している。
　　　

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