奈良先端科学技術大学院大学の浦岡行治准教授（微細素子科学）らの研究グループは、２層に積み重ねた高性能の薄型シリコンの結晶化に成功したと発表した。

　将来的には、次世代ディスプレーの実現や人工網膜などへの応用が期待される成果であった。
　この研究成果は近く、米国論文誌「エレクトロン・デバイス・レターズ」に掲載される。

　超薄型コンピューターの製造において、ガラス基板上で画面表示やコンピューターの機能を果たす次世代ディスプレーを実現するためには、より高性能の薄型シリコンの開発が求められていた。

　ガラス基板の上に薄型のシリコンを重ねてスイッチの役割を果たす二重に積み重ねた薄型シリコンの結晶化が成功したもので、従来の薄型シリコンは１層のものしか通電できなかったが、開発した高性能の薄型シリコンは厚さを０・２マイクロメートルに抑え、２層に重ねても通電を可能にした。

[0回]